Китай сделал заметный шаг в полупроводниковой гонке: исследователи из Чжэцзянского университета представили электронно-лучевую литографическую установку под названием Сижи. Это важный прорыв, ведь страна лишена доступа к передовым High-NA EUV сканерам компании ASML из-за экспортных ограничений США.
Хотя «Сижи» пока не подходит для массового производства, её точность впечатляет — 0,6 нм, что близко к возможностям последнего поколения оборудования ASML. Основной минус — скорость: в отличие от EUV-сканеров, печатающих узоры сразу по всей пластине, EBL работает точка за точкой, из-за чего на обработку одного вафля уходят часы. Такая технология полезна для научных исследований, прототипов или военных задач, но не для крупных фабрик.
Главное здесь не сама машина, а тенденция. Санкции, которые должны были замедлить Китай, наоборот заставили его вкладываться в собственные разработки. И хотя EBL не заменит DUV и EUV в массовом сегменте, он даёт стране необходимые инструменты и опыт для экспериментов с передовыми архитектурами, постепенно сокращая отставание от Запада.
Сегодня Китай по-прежнему полагается на DUV для основной продукции, но «Сижи» показывает: технологическая дистанция сокращается. Будущее мировой микроэлектроники всё меньше похоже на монополию и всё больше — на соревнование, где каждый прорыв способен изменить баланс сил в цепочках поставок.
2 комментария
США сами заставили Китай развиваться в одиночку, теперь жалуются 😂
неизбежно… США сами себе выстрелили в ногу санкциями